Equipamento para a fabricação de semicondutores, microchips e ecrãs de painel plano.

Detalhes do produto:

Lugar de origem: China
Marca: CHONGYANG
Certificação: ISO ,CE
Número do modelo: CY-UP-10000L/H

Condições de Pagamento e Envio:

Quantidade de ordem mínima: 1
Preço: negotiable
Detalhes da embalagem: De acordo com a norma de exportação
Tempo de entrega: Com 30-40 dias
Termos de pagamento: L/C, T/T
Habilidade da fonte: 100 séries/mês
Melhor preço Contato

Informação detalhada

Nome do produto: Planta do RO Capacidade: 10000L/H-100000L/H
Material: 304 de aço inoxidável, 316L UPVC Membrana ro: RO dobro, único RO
Tanque de água: Tanque de água crua, tanque de água do RO, tanque de água médio PR-tratamento: filtro do Multi-meio, filtro do carbono ativado, emoliente
Marca de bomba: Grundfos, CNP Material do alojamento do RO: SS, FRP
Resistividade: 18.2 MΩ·cm Válvula: Válvula de borboleta

Descrição de produto

Especificações Detalhadas para Equipamentos de Água Ultra Pura (UPW) de Grau Eletrônico

Equipamentos de Água Ultra Pura (UPW) de grau eletrônico são projetados para produzir água da mais alta pureza, essencial para a fabricação de semicondutores, microchips e telas planas. O sistema deve atingir de forma confiável uma resistividade de 18,2 MΩ·cm a 25°C e ter níveis extremamente baixos de íons, partículas, bactérias e Carbono Orgânico Total (COT).

1. Capacidade (Vazão)

O vazão de um sistema UPW é altamente personalizável com base nos requisitos da fábrica. Os sistemas são tipicamente dimensionados por sua capacidade de produção horária ou diária.

  • Faixa Padrão:

    • Vazão de Recirculação: 50 m³/h – 200 m³/h (220 – 880 GPM)

    • Vazão de Reposição: 10 m³/h – 100 m³/h (44 – 440 GPM)

2. Especificações Chave

Parâmetro Especificação Propósito / Justificativa
Qualidade Final da Água    
Resistividade 18,2 MΩ·cm a 25°C Mede a pureza iônica. O máximo teórico.
COT (Carbono Orgânico Total) < 1 ppb (μg/L) Previne a contaminação orgânica nas pastilhas.
Contagem de Partículas (≥ 0,05 μm) < 100 / litro Elimina defeitos em circuitos em nanoescala.
Sílica (SiO₂) < 0,1 ppb Forma camadas de óxido isolantes.
Bactérias < 0,01 UFC/mL Previne biofilmes e contaminação microbiana.
Componentes do Sistema    
Pré-tratamento Filtros multimídia, filtros de carvão ativado, amaciadores Remove sólidos suspensos, cloro e orgânicos.
Purificação Primária Osmose Reversa (RO) de Dupla Passagem Remove >99% dos sais dissolvidos e orgânicos.
Polimento EDI (Eletrodeionização) Remoção contínua e livre de produtos químicos de íons residuais.
Polimento Final Lâmpada UV (185nm & 254nm), DI de Leito Misturado para Polimento UV de 185nm oxida orgânicos; polimento final garante 18,2 MΩ·cm.
Distribuição Circuito de Recirculação Contínua com Filtros de 0,1 μm Mantém a pureza no ponto de uso e previne o crescimento bacteriano.

3. Materiais de Construção

A escolha dos materiais é fundamental para evitar que o próprio sistema se torne uma fonte de contaminação.

  • Tubulação e Conexões: PVDF (Fluoreto de Polivinilideno) é o padrão da indústria para o circuito de alta pureza. Aço Inoxidável 316L (Eletropolido, Baixo Carbono) é usado para tanques e alguns componentes de pré-tratamento.

  • Válvulas: Válvulas de Diafragma PVDF ou Válvulas de PP (Polipropileno) são padrão para minimizar trechos mortos e contaminação.

  • Bombas: Aço Inoxidável (316L) com vedações de alta qualidade.

  • Instrumentação: Todas as partes molhadas devem ser compatíveis (por exemplo, PVDF, PFA, 316L SS) para evitar lixiviação.

4. Consumo de Energia

O energia—são todas projetadas para atender às exigências de pureza intransigentes da indústria eletrônica, garantindo altos rendimentos de fabricação e desempenho do produto. é significativo e varia muito com a capacidade do sistema. Os principais consumidores de energia são bombas RO de alta pressão e lâmpadas UV.

  • Faixa Típica: 50 kW – 500 kW

    • Um sistema pequeno (10 m³/h) pode exigir ~50-100 kW.

    • Um sistema grande (100 m³/h) pode exigir 300-500 kW ou mais.

Resumo:

Um Sistema de Água Ultra Pura de 18,2 MΩ·cm é um trem de purificação complexo e multi-estágio. Suas especificações—desde as altas vazões e parâmetros extremos de qualidade da água até os materiais PVDF inertes e as substanciais necessidades de energia—são todas projetadas para atender às exigências de pureza intransigentes da indústria eletrônica, garantindo altos rendimentos de fabricação e desempenho do produto.

Deseja saber mais detalhes sobre este produto
Estou interessado em Equipamento para a fabricação de semicondutores, microchips e ecrãs de painel plano. você poderia me enviar mais detalhes como tipo, tamanho, quantidade, material, etc.
Obrigado!
Esperando sua resposta.